Intel poursuit sa course à la miniaturisation

Mobilité

Pour les dirigeants d’Intel, pas d’avenir sans investissements massifs en recherche et développement. Basés sur la loi de Moore, les investissements sont nécessaires à une miniaturisation toujours plus aboutie des semi-conducteurs. Intel consacrera notamment 2 milliards de dollars à l’aménagement de son usine d’Arizona qui produira, à partir de fin 2005, des processeurs en 65 nanomètres.

Malgré la crise, les investissements se poursuivent. Tel est, en substance, le message qu’a fait passer Craig Barrett, directeur exécutif d’Intel et porte-parole de luxe depuis qu’il a laissé la direction générale à Paul Otellini (voir édition du 18 janvier 2002), aux 4 000 développeurs venus participer au traditionnel Intel Developper Forum de printemps qui se tient du 18 au 21 février 2003 à San Jose (Californie). “L’aspiration des particuliers, des entreprises, des administrations et autres structures du monde entier à disposer de technologies perfectionnées ne se dément pas. Les événements des deux dernières années ont montré plus clairement que jamais que l’innovation et la technologie continuent de progresser même lorsque l’économie ralentit. Dans les régions les plus industrialisées comme dans les pays émergents, entreprises et pouvoirs publics envisagent les infrastructures informatiques et de télécommunications comme le fondement de leur compétitivité à long terme”, a déclaré le maître de cérémonie. En résumé, Intel – tout comme les autres acteurs de cette industrie – est condamné à poursuivre ses efforts de recherche et développement. C’est une question de survie. “Notre réussite viendra de notre capacité à repousser les limites technologiques pour proposer à nos clients de nouveaux avantages, de nouveaux domaines d’application et une plus-value renforcée”, se plaît-il à rappeler.

La poursuite des investissements se base notamment sur l’éternelle ? serait-on tenté d’affirmer ? loi de Moore qui, en résumé, constate que la puissance d’un processeur double tous les deux ans environ à investissements constants, grâce essentiellement aux progrès de miniaturisation des composants. “L’importance de la loi de Moore, qui parie sur des produits toujours plus miniaturisés, plus puissants et moins chers à produire, reste l’axe d’investissement qu’adoptent en permanence les acteurs de notre secteur qui sont résolus à rester compétitifs. Pour Intel, la voie est toute tracée”, juge Craig Barrett. Il n’en oublie pourtant pas les limites physiques de la loi même s’il se contente d’évoquer vaguement le problème : “L’intérêt fondamental de l’innovation et de l’intégration en matière de semi-conducteurs est avéré pour plusieurs générations, dans la mesure où elles continuent à dégager des avantages pour les clients et à servir de base à de nouveaux produits d’exception.” Même si, selon certains, la loi de Moore a encore une bonne décennie d’existence devant elle, il aurait été intéressant de connaître ce qu’Intel prévoit au-delà. Les nanotubes de carbone ? Les fibres optiques ?

Deux milliards de dollars pour aménager une usine

Les investissements de la firme de Santa Clara passeront notamment dans le réaménagement de l’usine n°12 de Chandler (Arizona) afin de basculer sa production de galettes de silicium de 200 à 300 mm. Rappelons que la galette de silicium est le matériau à partir duquel sont gravés (ou “lithographiés”, devrait-on dire) les processeurs et autres semi-conducteurs. Intel va investir deux milliards de dollars dans ce réaménagement qui devrait démarrer en 2004 pour une production fonctionnelle prévue fin 2005. L’usine permettra de fabriquer des processeurs dotés de transistors à 65 nanomètres (nm). A titre de comparaison, le Pentium 4 est actuellement gravé en 130 nm (0,13 micron). Un investissement lourd mais à la rentabilité certaine puisque, selon le fondeur, les usines de galettes en 300 mm permettent de produire deux fois plus de processeurs que celles en 200 mm, tout en consommant jusqu’à 40 % d’énergie et d’eau en moins. L’usine d’Arizona sera la cinquième manufacture en 300 mm.


Lire la biographie de l´auteur  Masquer la biographie de l´auteur