Intel grave encore plus fin

Vingt nanomètres ou 20 milliardièmes de mètre. C’est la taille des transistors que les ingénieurs du centre de recherche Hillsboro (Oregon) d’Intel auraient réussi à atteindre. Rappelons que les transistors sont l’élément de base du processeur et sont aujourd’hui essentiellement produits en 0,18 voire 0,13 micron (ou 180 et 130 nanomètres). Soit entre six et neuf fois plus « volumineux » que les nouveaux transistors annoncés ce week-end en pré-ouverture du VLSI Symposium de Kyoto (12 et 13 juin 2001, Japon).

Après avoir annoncé une gravure en 0,07 micron (voir édition du 9 mars 2001), Intel n’en finit pas de battre des records de miniaturisation des transistors, repoussant toujours plus loin la célèbre loi de Moore qui consiste à doubler le nombre de micro-interrupteurs d’un processeur tous les 18 mois environ. Cette annonce est d’autant plus impressionnante que la taille des transistors est inférieure à celle de la longueur d’onde de l’ultraviolet utilisé dans le procédé de gravure par lithographie. Les ingénieurs ont donc réussi à contourner ce problème avec un procédé d’élaboration jalousement gardé et intitulé phase shifting.

Des processeurs à 20 GHz en 2007

Avec une telle découverte, Intel prévoit de produire vers 2007 des processeurs équipés d’un milliard de transistors (contre 42 millions pour le Pentium 4 actuel) et cadencés à 20 GHz (contre 1,7 GHz pour le plus véloce des P4). Le plus étonnant est qu’un tel processeur nécessiterait moins d’un volt, soit moins d’énergie que les puces actuelles. Phénomène directement lié à la réduction de la taille des transistors. Alors que Gordon Moore lui-même ne pensait pas pouvoir franchir 0,25 micron, alors qu’un autre ingénieur d’Intel, Paul A. Packan, avait émis de sombres réserves sur les capacités de miniaturisation en dessous de 0,13 micron, Intel dépasse une fois de plus les limites théoriques. C’est à se demander jusqu’où ira le fondeur.