nVidia passe à la gravure en 110 nanomètres

Le concepteur de processeurs graphiques nVidia annonce avoir adopté la technologie de gravure en 110 nanomètres (ou 0,11 micron) de TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company). La technologie utilisée est en fait une « réduction photolithographique de son procédé au 0,13 micron », selon le fondeur taiwanais. Il devrait offrir une consommation électrique optimisée tout en accélérant la vitesse de circulation du flux électrique entre les transistors.

Mais on ignore encore quelles puces bénéficieront de cette nouvelle finesse de gravure. Les futurs processeurs NV40 ? C’est peu probable dans la mesure où nVidia avait déclaré qu’ils hériteraient du procédé de fabrication du NV35 (GeForce FX 5900). Les GeForce 4000 et 3000 que vient d’annoncer la société ? Peut-être, ces processeurs pour téléphones mobiles venant d’entrer en phase de production. Ils bénéficient de la technologie nPower à basse consommation et offrent des performances inédites en matière d’image pour les téléphones mobiles (fichiers JPEG et MPEG, jusqu’à 3 millions de pixels, et zoom numérique 8x).

Revirement stratégique

Le choix de nVidia est donc un revirement. Le concepteur américain s’était en effet tourné vers IBM suite à des problèmes de production rencontrés chez TSMC avec le 130 nm. Des problèmes envolés depuis, apparemment. TSMC assure que sa technologie de gravure est qualifiée depuis décembre 2003. « Les rendements ont déjà atteint des niveaux dignes de production et la version à faible tension est déjà entrée en production de masse », souligne le communiqué de TSMC.