La lithographie par nano-impression fait bonne impression

Cloud

Le Nist accorde toute sa confiance à cette technique d’impression d’une précision étonnante.

Les travaux de recherche menés au National Institute of Standards and Technology (Nist) ont donné une nouvelle impulsion à la technologie de fabrication de microcircuits connues sous le nom de lithographie par nano-impression.

L’organisation a constaté que la technique pouvait imprimer avec précision des structures isolantes délicates sur des micropuces sans provoquer de dommages.

La lithographie par nano-impression est un procédé de gravure dans lequel un poinçon recouvert d’un motif nanométrique est appliqué sur un film souple à la surface d’une galette à semiconducteurs. Le film est ensuite durci sous l’effet de la chaleur ou de l’exposition à des rayons ultraviolets, et le film conserve le motif imprimé à partir du poinçon.

Le procédé est “d’une précision étonnante“, selon le Nist, et peut être utilisé pour créer des formes de seulement 10 nanomètres et de structure relativement complexe. Selon le Nist, la lithographie par nano-impression apparaît comme un excellent candidat pour la constitution de couches isolantes de structure complexe entourées de couches de dispositifs logiques dans les prochaines générations de circuits intégrés.

Les semiconducteurs de pointe contiennent plus d’un milliard de transistors dans une pièce de silicium qui ne mesure pas plus de quelques centimètres carrés. Plusieurs kilomètres de câbles de cuivre nanométriques sont nécessaires pour connecter les dispositifs, et ces câbles doivent être séparés par un isolant extrêmement efficace.

Les scientifiques du Nist experts en matériaux ont déjà fait savoir que la lithographie par nano-impression pouvait être utilisée sur des matériaux isolants fonctionnels pour transférer des motifs contenant des détails d’une grande finesse (de l’ordre de 100 nanomètres) en limitant la déformation due au traitement.

Dans un nouvel article à paraître ce mois-ci, les scientifiques décrivent ce procédé en utilisant une série de techniques afin de mesurer la répartition des nanopores dans le matériau isolant.

Ils ont découvert que le procédé de gravure lithographique par nano-impression avait un effet bénéfique en ce sens qu’il augmentait la population des petits pores, ce qui améliore les performances, réduit la population des pores plus larges pouvant poser problème et crée une couche de protection fine et dense sur toute la surface du matériau.

Traduction de l’article Nanoimprint lithography makes a good impression de Vnunet.com en date du 1er mai 2008.


Lire la biographie de l´auteur  Masquer la biographie de l´auteur